+7 (495) 663-30-39
+7 (495) 663-30-67
tech@cryosystems-mve.ru

Криосистемы

Сайт компании: www.cryosystems.ru
planarTECH

 

CVDlab 40_1100

CVDlab 50_1100

CVDlab 60_1100

CVDlab 90_1100


Отвечая на запросы рынка, и, принимая во внимание тенденцию к импортозамещению, наша компания начала разрабатывать и производить небольшие бюджетные установки для осаждения покрытий с 2013 года. Для роста углеродных нанотрубок и графена  мы предлагаем серию установок газо-фазного осаждения CVDLab.

CVDLab – бюджетная, простая в управлении установка «под ключ» для проведения исследований, сконструированная в соответствии с современными стандартами безопасности. Может быть выполнена как для работы в автоматическом режиме с применением ПЛК-контроллеров фирмы Siemens, таки в полностью ручном режиме.  Эта простая в использовании система позволяет работать с различными газами, проводить процессы при атмосферном давлении, в вакууме и небольшом избыточном давлении.

 

Область применения:


Установка модели CVDLab используется для отработки процессов и выпуска малых партий, ее основные применения синтез 2D материалов:  углеродных нанотрубок, графена, MoS2.

 

Стандартная спецификация:


  • Компьютерное программное обеспечение, позволяющее контролировать процессы, хранить данные, работать с интерфейсом безопасности и генератором рецептов для компьютеров на базе ПЛК Siemens.
  • Перепрограммирование стандартных рецептов роста для одностенных и многостенных нанотрубок, графена и др.
  • 1, 2-хили 3-зонная (опция) резистивная печь для температур до 1050/1100 °С.
  • Ручная загрузка образцов.

cryosystems cvdlab

 

  • Кварцевая реакционная камера, система напуска газа, термопара.
  • Одинарное вакуумное уплотнение по фланцам реактора.
  • Газовые линии с расходомерами – 1-4 шт, и до 8 (опционально).
  • Гарантия 12 месяцев.
  • Интуитивно понятное ПО и система защиты или ручной режим работы.

 

Технические характеристики:


Рабочая камера Кварц, размеры (Диам х Дл): 40/50/60/90 х 1000 мм
Печь 1-зонная, Кантал, Макс. 1050 °С и до 1200°С
Вакуумный насос 180/200 л/мин, пластинчато-роторный
Рабочие газы Аргон-1000 мл/мин, H2-100 мл/мин, CH4-200 мл/мин
Управление Ручной режим или с управлением через сенсорный экран PLC

 

^ В НАЧАЛО