Глубокое травление кремния DRIESAMCO

Глубокое реактивно-ионное травление с использованием Бош-процесса (DRIE)

SAMCO была первой компанией-производителем системы тарвления в Японии, которая лицензировала Бош процесс. С тех пор компания его непрерывно совершенствовала с применением свой технологии Tornado Coil.

Преимущества систем DRIE SAMCO:

• Наиболее быстрые в индустрии скорости травления (свыше 50 мкм/мин)
• Высокая селективность, сыше 250:1 (Si к фоторезисту)
• Однородность травления ± 5% или лучше (на подложках до 200 мм в диаметре)
• Высокое аспектное соотношение (лучше чем 40:1)
• Низкая шероховатость стенок, гладкий профиль стенок (неоднородности шероховатости менее чем 0,1 мкм)
• Патентованная технология против подтрава стенок на дне траншей (структур) с применением двух ВЧ мощностей при травлении структур SOI.
• Уникальная особенность «анти-наклон», которая позволяет получать высокую однородность
• Электростатический прижим подложек и охлаждение обратной стороны гелием (для более точного контроля температуры подложек)
• Смена ICP-источника (головы) для травления DRIE или SiO2

	RIE-400iPB
	Работа с подложками до 100 мм Легкость применения Легкость обслуживания Опциональная «голова» для SiO2 травления Бош-процесс для глубокого травления кремния Электростатический прижим ESC
	Подробнее
	RIE-800iPBC
	Работа с подложками до 200 мм Работа с кассеты на кассету Бош-процесс для глубокого травления кремния Высокоскоростные линии подачи газа для более гладких стенок структур Электростатический прижим ESC
	Подробнее
	RIE-800iPB
	Работа с подложками до 200 мм Загрузочная камера Бош-процесс для глубокого травления кремния Высокоскоростные линии подачи газа для более гладких стенок структур Электростатический прижим ESC
	Подробнее

Основные системы и установки:

• Травление RIE
• Травление ICP RIE
• Бош-травление (DRIE)
• XеF2-травление
• MOCVD
• PECVD
• LS-CVD
• Очистка плазмой
• Очистка УФ/озоном

Дополнительная информация:

• Технологии: Травление
• Технологии: CVD
• Технологии: Очистка (плазма и УФ)
• Элементы CVD-систем
• Расходные материалы

Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.