RIE-600iPCSAMCO

RIE-600iPC – система травления с использованием индуктивно-связанной плазмы способная генерировать плазму с очень высокой плотностью. Система имеет вакуумную систему откачки с высокой проводимостью и в то же время с точным контролем давления, что позволяет проводить процессы как при низком, так и при высоком давлении в реакторе, больших и маленьких потоках газов. Более того, использование патентованной ВЧ катушки (Tornado ICP) можно поддерживать горение плазмы при закачке больших ВЧ мощностей и при высоком давлении в реакторе. Применяемые совместно эти особенности позволяют пользователю использовать очень широкое процессное окно и подходит для высокоскоростного травления карбида и оксида кремния (SiC и SiO2)

Применение:

Траншеи, сквозные отверстия, формирование масок SiO2 при производстве мощных SiC устройств
Производство оптических компонент (оптические волноводы и микролинзы)
Производство микроканалов (микроотверстий)
Производство сенсоров

Подробнее о модели RIE-600iPC на английском: открыть

Основные системы и установки:

Дополнительная информация:

Технологии: Травление
Технологии: CVD
Технологии: Очистка (плазма и УФ)
Элементы CVD-систем
Расходные материалы

Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.