Tornado ICP coilSAMCO
При создании таких устройств как светодиоды или мощные транзисторы все более актуальным стоит вопрос снижения потребляемой энергии. Микропроизводство сложных полупроводников, из которых и создают такие устройства все сменьшими параметрами по потреблению требует очень точных процессов травления. Системы травления с индуктивно-связанной плазмой используют в 1000 раз более плотную плазму чем обычные установки реактивно-ионного травления с электродами параллельного типа и способны работать в более широком диапазоне давлений и потоков газов. Но главной трудностью является получение высоко однородной плазмы в ICP установках травления. SAMCO разработала и запатентовала ВЧ катушку, которая была названа Tornado ICP® с 3-х размерной структурой. Катушка Tornado намотана в виде конуса и позволяет формирование высоко плотной плазмы.
Симуляция электро-магнитного поля создаваемого катушкой ICP Tornado: открыть
Основные системы и установки:
- Травление RIE
- Травление ICP RIE
- Бош-травление (DRIE)
- XеF2-травление
- MOCVD
- PECVD
- LS-CVD
- Очистка плазмой
- Очистка УФ/озоном
Дополнительная информация:
- Технологии: Травление
- Технологии: CVD
- Технологии: Очистка (плазма и УФ)
- Элементы CVD-систем
- Расходные материалы
Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.
