Имплантер модели PULSION NanoИонная имплантация |
Ion Beam Services |
В данной серии имплантеров реализован метод плазменной ионной имплантации методом имплантации из плазмы.
Применение: исследования и разработки, сфера наноэлектроники и нанотехнологий, там где требуются высокие дозы и низкие энергии имплантации.
Одна из конфигураций - PULSION Nano – разработана для таких приложений, как нанокристаллы, разработка подложек, солнечные элементы, high K и др.
| Диапазон энергий | Стандартно: 20В-10кВ, опционально: до 50кВ. |
| Подложко-держатель | 200-300мм; Возможность применения адаптер для пластин меньших диаметров (размеров). |
| Рабочая камера |
1 или 2 шт, камера совместима с подложками до 450 мм. |
| Компоненты |
3 SDS линии : BF3, B2H6, PH3, AsH3 Одна линия для газа под давлением: Ar или N2, O2, H2, He2 Дооснащение: 2 дополнительные линии опционально: SiH4, SiF4, CH4 |
Особенности:
- Ультранизкие энергии: менее 20эВ (!)
- Универсальность, заключающаяся в уникальной комбинации свойств: широкий диапазон энергий, шкала токов и газов для различных приложений
- Небольшие габариты: установка занимает от 4 до 9 кв.м
Проспект на модель PULSION Nano: IBS_PULSION_Nano_PIII.pdf
Дополнительная информация:
- Технологии (Ионная имплантация)
- Расходные материалы (запчасти к имплантерам)
Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.
