SAMCOПлазма-стимулированное газофазное осаждение паров (РЕCVD) |
SAMCO |
 |
PD-220NA |
|
Осаждение пленок SiN и SiO2 Работа с подложками до 200 мм Низкая стоимость Небольшие габариты |
|
| Подробнее | |
 |
PD-220NL |
|
Осаждение пленок SiN и SiO2 Загрузочная камера Работа с подложками до 200 мм Небольшие габариты |
|
| Подробнее | |
 |
PD-2203L |
|
Модульная система До 3-х рабочих камер Предотвращение перекрестного загрязнения Небольшие габариты |
|
| Подробнее | |
 |
PD-3800 |
|
Осаждение пленок SiN и SiO2 Нижний электрод диаметром 380 мм Работа с подложками 210 х 295 мм Великолепная однородность осаждения |
|
| Подробнее | |
 |
PD-3800L |
|
Осаждение пленок оксидов и нитридов Загрузочная камера Высокая производительность |
|
| Подробнее | |
 |
PD-4800 |
|
Осаждение пленок нитридов Осаждение оксидов Работа с подложками 210 х 295 мм Великолепная однородность осаждения |
|
| Подробнее | |
 |
PD-220LC |
|
Производственная система Осаждение пассивирующих слоев и межслойных диэлектриков Работа с кассеты на кассету Работа с подложками до 200 мм |
|
| Подробнее | |
 |
PD-200D |
|
Осаждение толстых алмазоподобных (DLC) пленок Работа с подложками до 200 мм |
|
| Подробнее |
Основные системы и установки:
- Травление RIE
- Травление ICP RIE
- Бош-травление (DRIE)
- XеF2-травление
- MOCVD
- PECVD
- LS-CVD
- Очистка плазмой
- Очистка УФ/озоном
Дополнительная информация:
- Технологии: Травление
- Технологии: CVD
- Технологии: Очистка (плазма и УФ)
- Элементы CVD-систем
- Расходные материалы
Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.
