Системы очистки поверхности (cleaning systems)
Системы очистки плазмой:
Системы очистки плазмой предназначены для очистки поверхностей различных образцов, микросхем, контактов и др.
Решения компании SAMCO включают оборудование для исследовательских применений R&D и оборудование с высокой производительностью для производственных задач.
Системы очистки комбинацией УФ/Озона:
Системы очистки УФ/Озоном используют ультрафиолетовое излучение и подачу озона с высокой концентрацией, а также нагрев образцов для ускорения процесса очистки для обеспечения полностью сухого процесса очистки без повреждений поверхности образцов.
