Системы очистки поверхности комбинацией УФ/ОзонаSAMCO

Системы очистки УФ/Озоном используют ультрафиолетовое излучение и подачу озона с высокой концентрацией, а также нагрев образцов для ускорения процесса очистки для обеспечения полностью сухого процесса очистки без повреждений поверхности образцов.

	UV-1
	Настольная система Подогрев столика с образцами Работа с пластинами до 150 мм Приемлемая цена
	Подробнее
	UV-2
	Компактная система Загрузка на выезжающий столик Обработка пластин до 200 мм Подогрев столика
	Подробнее
	UV-300
	Компактная система Обработка пластин до 300 мм Подогрев столика Вращение столика
	Подробнее
	UV-300H
	Обработка образцов до 300 мм Подогрев столика Генератор с высокой концентрацией озона
	Подробнее
	UV-300HC
	Работа с кассеты на кассету Контроль температуры (20-200°С) Генератор с высокой концентрацией озона Две кассеты (12 треев на кассету)
	Подробнее

Основные системы и установки:

• Травление RIE
• Травление ICP RIE
• Бош-травление (DRIE)
• XеF2-травление
• MOCVD
• PECVD
• LS-CVD
• Очистка плазмой
• Очистка УФ/озоном

Дополнительная информация:

• Технологии: Травление
• Технологии: CVD
• Технологии: Очистка (плазма и УФ)
• Элементы CVD-систем
• Расходные материалы

Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.